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Diskussion : P-n-Übergang
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P-n-Übergang
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Vorlage:Falscher Titel Ein p-n-Übergang ist die Übergangszone zwischen einem p-dotierten und einem n-dotierten Halbleiterkristall
Sie zeichnet sich durch ein Fehlen beweglicher Ladungsträger aus
da die positiven des p-Kristalls sich hier mit den negativen des n-Kristalls ausgeglichen (rekombiniert) haben
Da die ebenfalls vorhandenen ortsfesten Ladungen nicht rekombinieren können
welches einen Ladungstransport unterbindet
herrscht innerhalb der Zone ein elektrisches Feld
Dieses Feld kann durch eine von außen angelegte Spannung - je nach Polung - kompensiert werden
dann bleibt er gesperrt
dann wird der p-n-Übergang leitfähig
oder es kann verstärkt werden
Diese von der Polung abhängige Leitfähigkeit ist die Grundlage der Halbleiterdiode
der wichtigsten Anwendung des p-n-Übergangs
Deren Funktionsweise kann im Bändermodell erklärt werden
im p-Kristall bewegliche Elektronenfehlstellen im Valenzband (siehe unten
Bild a)
Im n-Kristall befinden sich bewegliche Elektronen im Leitungsband
An der Berührungsstelle können zunächst Elektronen in den p-Kristall eindringen und sich hier die Elektronenfehlstellen auffüllen (Bild b)
die den p-Kristall negativ
den n-Kristall positiv auflädt
Die zuvor elektrisch neutralen Kristalle erhalten durch die zurück bleibenden festen Ladungen nunmehr eine Raumladung
Durch die Ladungsträgerwanderung entsteht zwischen p- und n-Schicht eine elektrische Spannung
Sie wird Diffusionsspannung UD genannt
7 V
Bestehen die Schichten aus Silizium beträgt die Diffusionsspannung ca 0
6 bis 0
In der von beweglichen Ladungen freien Zone (der Sperrschicht) entsteht ein elektrisches Feld
um noch in den p-Kristall zu gelangen (Bild c)
Die Elektronen müssen nun gegen einen Potenzialwall anlaufen
wenn sich die Ferminiveaus der beiden Kristalle angeglichen haben. Durch Anlegen einer äußeren Spannung in Sperrrichtung (+ am n-Kristall
- am p-Kristall) wird das Feld der Sperrschicht verstärkt und der Potenzialwall vergrößert
Der Prozess kommt zum Erliegen
Elektronen bzw
so dass diese sich verbreitert
Defektelektronen werden von der Sperrschicht weg gezogen
Es fließt kein Strom
Bei Polung in Durchlassrichtung (+ am p-Kristall
- am n-Kristall) wird der Potenzialwall abgebaut
Neue Ladungsträger fließen von der äußeren Quelle auf die Sperrschicht zu und rekombinieren hier fortwährend
Es fließt Strom. [Bearbeiten]
Realisierung
Technisch werden p- bzw. n-dotierte Schichten über das gezielte Anreichern IV-wertiger Silizium-Kristalle mit V- bzw
III-wertigen Elementen (z.B
Arsen bzw
Gallium/Indium) erreicht
wird durch das Einbringen von V-wertigen Arsenatomen ein überschüssiges
frei bewegliches Elektron in den Kristallverband eingebracht
Da das umgebende Kristallgitter nur jeweils vier Elektronen festhalten kann
Umgekehrt wird natürlich durch das dotieren mit III-wertigem Gallium ein Elektronenloch eingefügt. [Bearbeiten]
Anwendung
in die Andere fast nicht
Wie oben gezeigt leitet der einfache p-n-Übergang elektrischen Strom in eine Richtug sehr gut
eine wichtige Anwendung dieser ist daher der Gleichrichter zur Umwandlung von Wechselströmen in Gleichströme
Einen solchen p-n-Übergang nennt man Diode
Feldeffekttransistor (FET)
Halbleiterdetektor usw. et:Pn-siire
Aber auch die meisten übrigen Halbleiterbauelemente verwenden einen oder mehrere p-n-Übergänge zur Erzielung ihrer Funktion
z.B. im Bipolartransistor
Dieser Artikel basiert auf dem Artikel
P-n-Übergang
aus der freien Enzyklopädie
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